俄罗斯决定自研7nm的光刻机
发布时间：2025-04-16 04:08:26来源：
俄科学家计划突破技术封锁自主研发先进光刻设备
近年来，全球半导体产业因技术壁垒和国际局势变化而面临诸多挑战。在此背景下，俄罗斯科研团队宣布将启动一项雄心勃勃的项目——自主研发基于7nm工艺的高端光刻机。这一决定不仅体现了俄罗斯在高科技领域寻求自主可控的决心，也为全球半导体供应链增添了新的变量。
据悉，该项目由俄罗斯多家顶尖研究机构联合推进，目标是在未来5至7年内实现关键技术突破。尽管起步晚于西方国家，但俄方希望通过整合本国在激光技术和材料科学方面的优势，弥补与国际领先水平的差距。同时，俄政府已承诺提供充足资金支持，并鼓励国内企业参与合作，共同构建完整的产业链生态。
业内人士认为，虽然短期内难以撼动ASML等巨头的地位，但此举或将推动相关领域的技术创新，并为其他发展中国家提供可借鉴的经验。无论如何，这场尝试无疑将成为全球科技竞争中的重要一环。
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